第一，工信部官宣国产光刻机三大指标：193纳米波段，分辨率65纳米，套刻小于等于8纳米。 第二，这个官宣是我看到的最科学的，没有资本作秀的（注意资本作秀）的技术指标。 我为什么这样说，因为我们在舆论界，在中国科学院上海光机所召开的国际光刻机会议论文集中，也只有几纳米制程，没有提及分辨率和套刻！甚至科学院研究所的论文居然把制程解释成分辨率，大大夸大了光刻机制造是神不可涉及的效果。那年科学院院长白春礼在舆论…

你提得太晚了，B站那边早就热火朝天，而且已经基本得出结论，干式DUV制程65NM，对标ASML十几年前的1470。取得了很大的突破但还不保险，要等浸没式的DUVI出来才能说芯片产业立于不败之地，当然考虑到DUV和DUVI的技术有很大传承性，所以DUVI应该已经在研制甚至样机已经开始试验，应该这两年就会有好消息。另外这一次最大的惊喜不是光刻机本身，而是同时公布的整条芯片生产线设备，对标28NM（实际线宽38NM左右），28以下的14、12、7…

淡定吧，这才哪到哪…… 之前因为知乎某些恨国党嘴实在太硬，我已经被逼无奈当了很多次“沸腾党”。 所以之前我不止一次说过，国产DUV已经在线上跑了，良率也逐渐爬坡。 包括上微、华为等在内的国内一众企业，都已经投身EUV相关技术研发，很多工作跟DUV是并行的。 只不过因为光刻机太敏感，半导体产业链整体又很低调，很多消息在战争迷雾下没公开而已。 华为芯片事件后，光刻机进展不说了。Sora出来后，人工智能也不说了，咋回事？ …

实现65纳米光刻机，意味着军事独立 中国军事上用的芯片，可以不用进口和走私，在整个西方国家封锁的条件下，打赢台海战争。 实现28纳米光刻机，意味着工业独立。 中国的空调洗衣机汽车等各类工业品，可以在西方国家脱钩断链技术制裁的情况，自主生产销售。 实现7纳米光刻机，意味着中国电子产业独立。 绝大部分的手机芯片，电脑硬盘内存cpu显示器等各类电子产业，都能摆脱国外限制。 实现7纳米以下的光刻机，意味着中国成为世界…

事实上，俄罗斯的半导体 产业，是比较落后的。在智能手机，平板，以及可穿戴设备飞速发展的今天，俄罗斯作为大国，没有主流的手机等硬件产品普及全球。记得前几年俄罗斯是有一款智能手机为yoga phone，双面屏幕，支持电纸书阅读，但并未流行开来，2019年俄罗斯Yoga Devices公司营运状况不佳，已经宣布破产。 至于俄罗斯半导体为什么落后，还得从上个世纪五六十年代说起。 俄罗斯半导体行业落后的原因在上个世纪五六十年代，还没有…

别吵吵这玩意儿了，能有多大事儿？光刻机这玩意儿我还是那个观点：美国已经错过了掐死中国芯片产业的机会 这个机会就是美国刚开始动手以前，包括动手的时候，甚至可以加上动手后的一年时间 美国对国内芯片的制裁，说好听点是添油，说难听点就是尿不尽 每次制裁都是制裁比国内水平稍微高一点的技术 你要制裁，要掐死国内的芯片产业，就不要考虑经济上的损失 直接起手就把牌梭哈了，自己办残也要弄死你，这样的话是有可能做到的，…

以前，我以为，7nm以下只能euv，因为tsmc就是这么搞的。duv的多次曝光是权宜之计。 最近，和朋友聊了聊，才发现不是的，人被逼到那个份上，思路被打开了。euv在2nm之前不是必须的。多次曝光比想象中的牛逼多了。gaa都不是问题。 我第一反应是不是良率不行，成本飙升？答案是不一定，euv良率也有限，duv多次曝光是多了很多工序，但起码现在，没有成本上的显著差距。未来可能潜力不行，被甩开，但起码现在，可以狠狠得往前迈一步。…

目前没有商用的国产光刻机。差距太大，上头几乎已经放弃研制光刻机了，也不算保密，只是没公布罢了。 目前国产最新的水平是07年研制出16年才形成制造能力的90nm，上头觉得能够保证战略要求就足够了，所以这个90nm的也没有商业化量产过，只有几台预研机。 下一步其实应该是65nm光刻机，这也是国内唯一真正立项的光刻机项目。 而国外65nm正是07年开始量产的，中国整整憋了17年，还是没有造出来。 光刻机平均三年一代，01年第七代13…