国产光刻机成了，为啥没热度呢？

你提得太晚了，B站那边早就热火朝天，而且已经基本得出结论，干式DUV制程65NM，对标ASML十几年前的1470。取得了很大的突破但还不保险，要等浸没式的DUVI出来才能说芯片产业立于不败之地，当然考虑到DUV和DUVI的技术有很大传承性，所以DUVI应该已经在研制甚至样机已经开始试验，应该这两年就会有好消息。另外这一次最大的惊喜不是光刻机本身，而是同时公布的整条芯片生产线设备，对标28NM（实际线宽38NM左右），28以下的14、12、7其实都是等效性能，都是在28的基础上采用一些新技术工艺，等完整体出来与西方整体相差一代，也从侧面说明DUVI正在紧锣密鼓研制中。